Si层厚度和退火处理对Co/Si薄膜结构和磁性的影响

上传:Memory丶melody 浏览: 19 推荐: 0 文件:PDF 大小:689.01KB 上传时间:2020-07-17 07:40:45 版权申诉
Si层厚度和退火处理对Co/Si薄膜结构和磁性的影响,王亚磊,李洁,采用磁控溅射方法在室温下在玻璃基片上沉积了系列Co/Si薄膜,并对其进行后期真空退火处理,研究了Si层厚度和后期退火对薄膜结构和�

Si层厚度和退火处理对Co/Si薄膜结构和磁性的影响

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