热丝CVD低温下快速制备碳化硅基硅纳米晶薄膜的研究

上传：vb96600 浏览： 20 推荐： 0 文件：PDF 大小：347.1KB 上传时间：2020-07-19 04:47:39 版权申诉

热丝CVD低温下快速制备碳化硅基硅纳米晶薄膜的研究，蒋继文，刘艳红，采用热丝化学气相沉积（HWCVD--Hot Wire Chemical Vapor Deposition）技术在低温下制备碳化硅基硅纳米晶（Si-NC:SiC --Si NanoCrystal embedded in Silicon Carb