非晶氮化硼薄膜的场致电子发射研究

上传：lqt67217 浏览： 15 推荐： 0 文件：PDF 大小：5.73MB 上传时间：2021-04-04 08:40:27 版权申诉

利用脉冲激光沉积(PLD)技术在镀钛的陶瓷衬底上制备出了非晶态氮化硼薄膜,借助于X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及Raman光谱分析了该薄膜的结构,并研究了薄膜场致电子发射特性,阈值电场为4.6 V/μm,当电场为9 V/μm时,电流密度为50 μA/cm2.