物理气相沉积法制备ε相三(8 羟基喹啉)铝晶体的结构和光学性质
物理气相沉积法制备ε相三(8-羟基喹啉)铝晶体的结构和光学性质
用户评论
相关推荐
薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积CVD和物理气相沉积PVD
薄膜沉积技术可以分为化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)。对于CVD工艺,这包括原子层沉积(ALD)和等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。PVD沉积技术包括溅射,电子束和热蒸发。CVD工
DOCX
1.47MB
2021-01-07 14:30
晶体光学汪相
可以非常仔细的了解到，水晶所涉及的光学内容的组合是非常好的教材。
PDF
0B
2019-06-21 03:27
铜在三8羟基喹啉铝中诱导的自旋极化
铜在三(8-羟基喹啉)铝中诱导的自旋极化
PDF
397KB
2021-04-24 07:50
使用成角度的物理气相沉积法制备尺寸可控的纳米流体通道
在本文中,我们演示了一种新的简单方法,即通过使用NIL和有角度的物理气相沉积(PVD),可以在大面积内实现尺寸受控的大型纳米通道,从而将尺寸减小至约50 nm。 使用NIL制造聚合物SU-8纳米光栅基
PDF
717KB
2021-04-26 17:47
三8羟基喹啉铝Alq3发光性能的调控
三（8-羟基喹啉）铝（Alq3）发光性能的调控，施跃文，施敏敏，三（8-羟基喹啉）铝（Alq3）是有机电致发光器件的基础材料。本文评述了如何通过分子的化学修饰和聚集态结构的改变来调控其发光光谱
PDF
338KB
2020-07-17 20:34
物理气相沉积-spss中python如何应用教程
二、物理气相沉积物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）是一种薄膜制备技术，广泛应用于微电子、光电子等领域。PVD技术包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀等方法，通过物理
pdf
13.65MB
2024-07-13 06:59
基于并五苯和三8羟基喹啉铝的垂直异质结发光场效应晶体管
基于并五苯和三(8-羟基喹啉)铝的垂直异质结发光场效应晶体管
PDF
640KB
2021-04-04 12:01
液相外延技术生长GaSb量子点的结构和光学性质
液相外延技术生长GaSb量子点的结构和光学性质
PDF
253KB
2021-04-06 08:12
物理气相沉积法制备薄膜的内应力形成机理及测量方法
物理气相沉积法制备薄膜的内应力形成机理及测量方法
PDF
301KB
2020-07-16 10:33
常压化学气相沉积技术生长ZnO∶H薄膜的光学性质
采用常压金属有机物化学气相沉积技术(APMOCVD),以二乙基锌(DEZn)为Zn源,去离子水(H2O)为氧源,N2作载气,在外延ZnO薄膜的反应气氛中通入少量氢气,在cAl2O3衬底上生长出了Z
PDF
402KB
2021-02-25 05:55
8羟基喹啉铝高分子复合物薄膜的瞬态荧光特性与机理
对8-羟基喹啉铝;Alq3 高分子复合物薄膜的的瞬态荧光特性和机理进行了研究,发现复合物薄膜的荧光寿命比Alq3样品的寿命明显缩短,荧光峰值波长紫移,高分子基质引起的淬灭过程可能是导致复合物薄膜寿命降
PDF
797KB
2021-04-06 04:42
基于并五苯三8羟基喹啉铝异质结晶体管的有机非易失性存储器
基于并五苯/三(8-羟基喹啉)铝异质结晶体管的有机非易失性存储器
PDF
1.75MB
2021-04-20 02:18
气相输运沉积制备化合物薄膜材料的研究进展
相比用于制备晶体材料的化学气相输运(Chemical Vapor Transport, CVT)方法,近空间气相输运沉积(Close-spaced Vapor Transport Deposition
PDF
2.26MB
2021-01-31 20:26
TlBr晶体的纯化和光学性质
TlBr通过化学沉淀法合成,通过水热重结晶法纯化,并通过垂直Bridgman法生长。 使用电感耦合等离子体质谱法进行ppb / ppm级的痕量元素分析。 观察到杂质浓度的显着降低是冷却速率的函数。 水
PDF
256KB
2021-03-08 07:01
退火温度对原子层沉积法制备ZnMgO薄膜结构和光学性质的影响
退火温度对原子层沉积法制备ZnMgO薄膜结构和光学性质的影响，孙冬晓，李金华，采用原子层沉积法（ALD）在石英衬底上制备ZnMgO薄膜，并对制得的样品在空气中进行不同温度的退火处理。利用X射线多晶衍射
PDF
0B
2020-02-27 12:53