首页 下载 安全技术 其他 下载详情 常用半导体刻蚀配方及参数介绍 上传:expect4682 浏览: 14 推荐: 0 文件:rar 大小:902.59KB 上传时间:2023-05-03 03:18:48 版权申诉 半导体刻蚀 刻蚀配方 氧化硅 氮化硅 多晶硅 常用的半导体刻蚀配方和参数,并针对不同材料和工艺进行了详细说明。其中包括干法刻蚀氧化硅,干法刻蚀氮化硅,湿法刻蚀氧化硅,湿法刻蚀氮化硅,干法刻蚀多晶硅和湿法刻蚀多晶硅等配方,每种配方的混合气体比例都有详细描述。读者在进行半导体刻蚀操作前,应该仔细研究相关资料,并遵循所用设备和工艺的说明和建议。 立即下载 上传资源 微信扫一扫 用户评论 提交评论