PECVD沉积氮化硅薄膜应用研究.pdf

上传：qq_32494336 浏览： 30 推荐： 0 文件：PDF 大小：91.03KB 上传时间：2019-09-28 13:45:10 版权申诉

采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD),在单晶硅衬底上生长氮化硅(SiN)薄膜,再对薄膜进行快速热退火处理,研究了在不同温度下SiN

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