首页 下载 编程语言 其他 下载详情 硅烷流量对电弧离子镀TiSiN 涂层结构和性能的影响 上传:kun_ni 浏览: 29 推荐: 0 文件:PDF 大小:995.93KB 上传时间:2020-05-12 05:47:09 版权申诉 硅烷流量对电弧离子镀TiSiN涂层结构和性能的影响,杨兵,田灿鑫,在硅烷气氛中采用电弧离子镀技术制备TiSiN复合涂层。系统研究了硅烷流量对涂层结构和性能的影响。采用透射电子显微镜分析涂层结构� 立即下载 上传资源 微信扫一扫 用户评论 提交评论