硅烷流量对电弧离子镀TiSiN 涂层结构和性能的影响

上传：kun_ni 浏览： 29 推荐： 0 文件：PDF 大小：995.93KB 上传时间：2020-05-12 05:47:09 版权申诉

硅烷流量对电弧离子镀TiSiN涂层结构和性能的影响，杨兵，田灿鑫，在硅烷气氛中采用电弧离子镀技术制备TiSiN复合涂层。系统研究了硅烷流量对涂层结构和性能的影响。采用透射电子显微镜分析涂层结构�