氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究

氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究，马胜利，张旭东，本文采用电弧增强磁控溅射镀膜(AEMS)技术制备SiCx:H薄膜，采用新颖的独立Si、C平面靶材，通过采用不同的工艺参数得到不同显微结构及光