首页 下载 移动开发 其他 下载详情 氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究 上传:labidax 浏览: 22 推荐: 0 文件:PDF 大小:859.78KB 上传时间:2020-07-17 16:02:09 版权申诉 氢化硅碳薄膜制备及其光电性能研究,马胜利,张旭东,本文采用电弧增强磁控溅射镀膜(AEMS)技术制备SiCx:H薄膜,采用新颖的独立Si、C平面靶材,通过采用不同的工艺参数得到不同显微结构及光 立即下载 上传资源 微信扫一扫 用户评论 提交评论