光热退火的光量子效应对富硅氮化硅薄膜特性的影响

上传：jalena 浏览： 33 推荐： 0 文件：PDF 大小：784.72KB 上传时间：2020-05-14 06:14:42 版权申诉

光热退火的光量子效应对富硅氮化硅薄膜特性的影响，陈小波，杨培志，采用双极脉冲和射频磁控共溅射沉积法，在单晶硅衬底和石英衬底上制备富硅SiNx薄膜.为了比较，在氮气氛围中，于950-1100℃温度下分别�