靶材行业报告

靶材是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料,是制备功能薄膜的原 材料,又称“溅射靶材”,纯度为99.95%以上,更换不同靶材可得到不同的膜系,实现 导电或阻挡等功能。当前靶材发展趋势是高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、以及高 纯金属。靶材纯度要求高,其中薄膜太阳能电池与平板显示器要求纯度为4N,集成电路芯片要 求纯度为6N。金属提纯的主要方式有化学提纯与物理提纯,化学提纯主要分为湿法提 纯与火法提纯,通过电解、热分解等方式析出主金属。物理提纯则是通过蒸发结晶、 电迁移、真空熔融法等步骤提纯得到主金属。再经过焊接、机械加工、清洗干燥、真空包装等工序。靶材制造涉及的工序 精细繁多,技术门槛