8英寸全自动硅片清洗腐蚀设备成功上市了!!

上传：lanyue21675 浏览： 6 推荐： 0 文件：PDF 大小：43KB 上传时间：2020-12-30 05:20:45 版权申诉

近日,由国内半导体清洗设备制造企业---北京华林伟业公司自主研发的"8英寸全自动硅片清洗腐蚀设备",已成功上市,并应用于国内江苏某8英寸项目中,得到了采购方的高度赞赏,该设备首次填补了国内半导体大生产线高端晶圆清洗设备的空白,对国内的半导体设备制造企业起到了带头作用,为中国半导体制造企业争得了荣誉。该研究课题在没有政府资金支持的情况下,完全由企业自主研发,自筹资金顶住压力,并由CTO亲自带队考察市场,立项,同时也得到了总经理的高度重视,从实际使用情况来看,设备的相关指标完全可以满足用户的工艺需求,反馈良好。正是在公司天时地利人和的环境下,才取得了现在的成功,打破了多年来半

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planner90724 2019-09-27 17:21:51

可以用的，别忘了其他的卷

轻描淡写的幸福93817年 2019-09-27 17:21:51

很好的东西可是解压不了

faith236961 2019-09-27 17:21:51

中文版把我害残了，这个版本能用的，就是注册机生成的序列号不能用。

硅片的腐蚀.pdf

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主要讲述了在半导体硅片清洗设备中常用的几种流量控制方法,主要包括工艺腔室和药液配比的流量控制,然后根据不同应用场景提出了对应使用的控制方法。单腔室硅片清洗机直接采用流量作为反馈信号进行闭环控制,通过控

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半导体硅片DHF清洗技术

a. 在DHF洗时,可将由于用SC-1洗时表面生成的自然氧化膜腐蚀掉,而Si几乎不被腐蚀。b. 硅片最外层的Si几乎是以 H 键为终端结构,表面呈疏水性。c. 在酸性溶液中,硅表面呈负电位,颗粒表面为

2020-12-13 11:06

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1 清洗液中的金属附着现象在碱性清洗液中易发生,在酸性溶液中不易发生,并具有较强的去除晶片表面金属的能力,但经SC-1洗后虽能去除Cu等金属,而晶片表面形成的自然氧化膜的附着(特别是Al)问题还未解决

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