磁控溅射制备TaN薄膜研究

上传:安筱磊 浏览: 17 推荐: 0 文件:PDF 大小:186.61KB 上传时间:2020-07-19 01:36:07 版权申诉
磁控溅射制备TaN薄膜研究,康杰,,使用磁控反应溅射制备TaN薄膜,研究不同氮分压,工作气压,溅射功率以及基片温度等条件对薄膜的结构和性能影响,得到了薄膜的方阻
上传资源
用户评论
相关推荐
直流磁控溅射制备超导TiN薄膜
直流磁控溅射制备超导TiN薄膜,陈志平,曹春海,在室温下,采用直流磁控溅射在高阻硅上生长了TiN薄膜,分别设定溅射功率、溅射气压以及N2和Ar的气体流量比为单一变量,获得了不同�
PDF
0B
2020-04-20 09:07
论文研究射频反应磁控溅射制备VOx薄膜.pdf
射频反应磁控溅射制备VOx薄膜,李建峰,吴志明,本文采用射频反应溅射法制备了VOx薄膜,重点研究了氧分压对薄膜电学性能的影响,在低真空中330℃低温退火得到了高性能的VOx薄膜,制
PDF
0B
2019-09-20 07:05
磁控溅射制备氧化钒薄膜研究
磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究
PDF
320KB
2021-02-23 20:35
磁控溅射技术制备氮化铝薄膜
报道了用磁控溅射制备氮化铝薄膜的工艺过程和实验结果.给出了氮化铝薄膜的光学常数与氩气、氮气压强之间的关系.结果表明,氮化铝薄膜的光学性质,很大程度上取决于氮气和氩气之间的压强比.
PDF
921KB
2021-03-02 01:13
氧气氛下磁控溅射制备富硼薄膜研究
在本文中,通过在不同氧分压下以射频和硼为靶的射频(rf)磁控溅射在(1 0 0)硅衬底上生长氧化硼( 10 B)膜。 分别通过X射线衍射(XRD),傅立叶变换红外光谱仪(FTIR),X射线光电子能谱(
PDF
656KB
2021-04-04 12:01
磁控溅射制备TiOsup2sup薄膜及其光学特性研究.pdf
采用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备TiO2薄膜.用紫外-可见光分光光度计和AFM分别表征了薄膜的透射率和表面形貌,用包络线法详细研究了不同衬底温度下TiO2薄膜的光学特性.结果表明:薄膜在可见
pdf
0B
2019-09-18 22:01
直流反应磁控溅射制备掺铟ZnO透明导电薄膜研究
本文介绍了掺铟ZnO透明导电膜的制备工艺.并应用半导体物理理论分析了薄膜的导电机理,用Drude理论建立了物理模型,分析与计算了薄膜从可见到红外光波段的光学性能,结果表明,理论计算与实测值两者符合得较
PDF
5.05MB
2021-02-21 00:58
磁控溅射制备氢掺杂氧化锌薄膜的掺杂性能研究
磁控溅射制备氢掺杂氧化锌薄膜的掺杂性能研究
PDF
574KB
2021-04-04 07:28
室温下射频磁控溅射制备ZnO Al透明导电薄膜及其性能研究
采用射频磁控溅射技术,在室温下,以ZnO:Al2O3(2%Al2O3(质量比))为靶材,在石英玻璃基底上,采用不同工艺条件制备了ZnO:Al(AZO)薄膜。使用扫描电子显微镜观察了薄膜的表面形貌,X射
PDF
538KB
2021-04-26 05:40
磁控溅射制备Mn Co Ni O热敏红外探测薄膜
磁控溅射制备Mn-Co-Ni-O热敏红外探测薄膜
PDF
787KB
2021-04-04 12:00
React磁控溅射沉积SiCN薄膜制备及光学性能
React磁控溅射沉积SiCN薄膜的制备及光学性能
PDF
1.75MB
2021-04-27 06:29
论文研究反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究.pdf
反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究,戈占伟,张昱,本文研究了在低阻硅衬底上,采用纯铪与纯钇金属靶,氧气为反应气,采用新颖的反应磁控溅射法制备了钇掺杂氧化铪薄膜。并对制得的
PDF
637KB
2020-07-16 06:34
射频磁控溅射制备氮化锌薄膜的结构和光学性质
射频磁控溅射制备氮化锌薄膜的结构和光学性质
PDF
178KB
2021-04-17 13:50
脉冲宽度对高功率脉冲磁控溅射制备纯钛薄膜影响的研究
脉冲宽度对高功率脉冲磁控溅射制备纯钛薄膜影响的研究,景凤娟,尹太磊,高功率辉光放电的表面改性方法是一项很有希望应用在工业上的物理气相沉积技术。高功率辉光放电峰值能量和金属离子的密度较高。本
PDF
680KB
2020-07-20 06:17
反应磁控溅射制备SiO
梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件, 其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更好的光学和机械性能。利用反应磁控溅射工艺, 改变沉积SiOx(0≤x≤2)膜氧化程度, 获得折射率从
PDF
1.32MB
2021-04-03 06:16