氧化钒薄膜制备及热处理过程研究

上传：jjhisoka 浏览： 12 推荐： 0 文件：PDF 大小：430.74KB 上传时间：2020-07-23 19:02:14 版权申诉

氧化钒薄膜制备及热处理过程研究，闫蓓蕾，，采用以金属钒为基础原料利用直接反应法制备氧化钒薄膜并进行热处理过程研究，研究热处理温度对氧化钒薄膜成分的影响。采用扫描电

上传资源

氧化钒薄膜的制备及其光电特性研究

采用一种新工艺在Si和Si3N4衬底上制备了性能优良的氧化钒薄膜,并对其微观结构和光电特性进行了研究。测试结果表明采用新工艺所制备的氧化钒薄膜在相变前后电阻率变化达到3个数量级,红外透过率在相变前后改

2021-02-23 20:35

磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究

磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究

2021-02-23 20:35

氧化钒碳纳米管复合薄膜的制备及特性

提出了一种制备氧化钒热敏电阻薄膜的新方法。采用紫外光和过氧化氢相结合的方法,对多壁碳纳米管进行功能化处理,然后通过溶胶凝胶法,使功能化碳纳米管与V2O5相复合,制备氧化钒碳纳米管复合薄膜。与单纯的氧化

2021-02-09 16:01

氧化钒薄膜光电特性

退火条件对氧化钒薄膜的特性影响与分析，氧化钒薄膜特性和制备

2020-07-23 19:02

ba8c氧化钒薄膜制备及其相变机理研究分析.pdf

V02是一种固态热致变色材料，随着温度的变化它的晶态结构会从半导体态相变到金属态，而且相变可逆。由于相变前后电、磁、光性能有较大的变化，这使得它成为一种有前景的电／光转换、光存储、激光保护和智能窗材

2020-04-29 13:35

钨钒共溅掺杂二氧化钒薄膜的制备及其光学特性

为了解决VO2薄膜掺杂后相变温度高,相变前后红外透射率差值减小等问题,利用磁控共溅射的方法,在普通玻璃基底上溅射沉积钨钒薄膜,再在常压氮氧混合气氛中退火,制备了性能良好的掺钨VO2薄膜。分析对比了不同

2021-02-10 01:35

溶液法制备氧化锡薄膜及光学特性研究

采用五水合氯化锡配制前驱体溶液,通过旋涂法在玻璃基底上制备了一种可见光平均透射率在90%以上的氧化锡透明薄膜。研究发现,对玻璃基底进行等离子预处理有助于改善氧化锡薄膜的表面质量。当等离子处理功率为25

2021-02-23 12:29

脉冲激光沉积法制备二氧化钒薄膜的研究进展

主要阐述了脉冲激光沉积(PLD)技术在制备金属氧化物方面的物理过程和技术特点, 详细介绍了脉冲激光沉积制备二氧化钒(VO2)薄膜的工艺参数和国内外研究进展, 并与几种常规制备方法进行了对比, 给出了脉

2021-02-25 21:16

氧化及热处理

硅氧化成二氧化硅工艺是集成电路工艺的又一个重要的工艺步骤。氧化工艺之所以重要是因为在集成电路的选择掺杂工艺中,二氧化硅层是掺杂的主要屏蔽层,同时由于二氧化硅是绝缘体,所以,它又是引线与衬底,引线与引线

2020-12-16 13:44

LMBE法制备氧化镓薄膜

L-MBE法制备氧化镓薄膜，孔德敏，刘爱华，本实验用L-MBE（激光分子束外延）法在蓝宝石衬底上制备氧化镓薄膜，并研究了氧分压和激光能量对氧化镓薄膜结晶质量的影响。并利用X

2020-07-16 13:39

快速热退火制备氧化钒薄膜的可调节金属绝缘体性能

快速热退火制备氧化钒薄膜的可调节金属-绝缘体性能

2021-04-18 04:10

热氧化法制备NiO薄膜及其性质研究

热氧化法制备NiO薄膜及其性质研究，王东博，高世勇，通过采用热氧化金属Ni膜的方法在蓝宝石制备了NiO薄膜。用X射线衍射方法对NiO薄膜的结构进行表征，光吸收谱、拉曼光谱和霍尔效应测量

2020-07-19 21:23

氮气气氛不同时氧化钒薄膜时间退火特性研究

对磁控溅射法制备的氧化钒(VOx)薄膜在N2气氛中进行了不同时间的450 °C退火实验,并研究了其退火前后的形貌、结构、成分和电学特性的变化。电阻温度特性测试表明,退火后薄膜的电阻(R)和电阻温度系数

2021-04-04 07:38

半透明氧化石墨烯薄膜的制备及微观结构研究

半透明氧化石墨烯薄膜的制备及微观结构研究，王艳，廉杰，用改进的Hummers法制备了氧化石墨，通过超声、沉聚和自组装等工序制得氧化石墨烯薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)图像，透射电子显微镜(TE

2020-07-16 10:26

热氧化制备纳米氧化锌薄膜的光致发光特性研究

报道了利用低压金属有机汽相外延(LP-MOCVD)工艺首先在硅(n-Si衬底上生长硫化锌(ZnS)薄膜,然后将硫化锌薄膜在氧气中于不同温度下进行热氧化,制备高质量的纳米氧化锌(ZnO)薄膜。X射线衍

2021-03-24 02:57