氮气气氛不同时氧化钒薄膜时间退火特性研究
对磁控溅射法制备的氧化钒(VOx)薄膜在N2气氛中进行了不同时间的450 °C退火实验,并研究了其退火前后的形貌、结构、成分和电学特性的变化。电阻温度特性测试表明,退火后薄膜的电阻(R)和电阻温度系数(TCR)都明显增大。从扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)图像可以观察到,薄膜在退火后其晶粒尺寸和粗糙度都大大增加。由X射线衍射(XRD)分析得知薄膜退火前是非晶的,而在退火后出现V2O5(0 0 1)和VO2(0 1 1,1 -1 0)以及V2O3(1 1 3)结晶相。X射线电子谱(XPS)定量分析表明薄膜在N2气氛中退火也被氧化了,这是由于薄膜表面的吸附氧转化为晶格氧所致。
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