激光晶化制备多晶硅薄膜技术

上传:qq_84506 浏览: 8 推荐: 0 文件:PDF 大小:690.9KB 上传时间:2021-02-22 05:29:42 版权申诉
激光晶化是一种制作晶硅薄膜器件(如薄膜晶体管、太阳能电池)很有效的技术。展望了低温多晶硅薄膜的应用前景,详细介绍了近几年激光晶化制备多晶硅薄膜技术的研究成果,并就激光对非晶硅作用的原理作了简单讨论。
上传资源
用户评论
相关推荐
激光定域技术制备纳米硅的研究
朱乐仪,黄信凡,王 立,王晓伟,马忠元,李 伟,陈坤基(南京大学物理系,固体微结构物理国家重点实验室,江苏南京 210093)摘要:利用相移光栅模板使KrF准分子激光形成强度周期分布的激光束,定域晶化
PDF
106KB
2020-12-16 21:19
多晶硅薄膜制备方法设计
多晶硅薄膜材料同时具有单晶硅材料的高迁移率及非晶硅材料的可大面积、低成本制备的优点。因此,对于多晶硅薄膜材料的研究越来越引起人们的关注,多晶硅薄膜的制备工艺可分为两大类:一类是高温工艺,制备过程中温度
PDF
116KB
2020-10-28 05:45
高强度激光薄膜制备技术
激光薄膜的制备技术是日本东洋大学教授村山洋一的一项研究成果,它用了高频离子溅射技术和新的拋光技术,前者能够镀制致密,坚硬的优质薄膜,后者能减小玻璃基板表面的粗糙度,从而大大提高薄膜的抗激光损伤能力。
PDF
1.29MB
2021-04-23 16:29
PECVD制备氢化非薄膜
PECVD制备氢化非晶硅薄膜的氢含量研究_王祖强.pdf
PDF
451KB
2020-07-18 03:44
HWCVD法制备和纳米WOx薄膜
HWCVD法制备非晶和纳米晶WOx薄膜,李忠岳,王春霞,氧化钨(WOx)作为重要的过渡金属氧化物之一,在许多领域具有广泛的应用,目前已发展出了多种氧化钨的制备工艺。本文利用热丝化学
PDF
748KB
2020-07-17 11:00
YAG激光频率对aH Si薄膜的影响
研究了一种氢化非晶硅(aH-Si)薄膜微晶化的激光控制工艺方法。在保持脉宽、激光功率和激光光斑大小一致的情况下,分别应用4、8、10、12、15 Hz频率YAG激光对aH-Si/晶体硅(c-Si)结构
PDF
1.85MB
2021-02-10 01:53
薄膜制备技术试验.ppt
薄膜制备技术 试验.ppt 真空技术在二十世纪得到迅速发展,并有广泛的应用。二十世纪初,在真空获得和测量的设备方面取得进展,如旋转式机械泵,皮氏真空计,扩散泵,热阴极电离真空计的发明,为工业上应用高真
APPLICATION/MSWORD
525KB
2020-08-08 18:55
阳极氧化溅射Sn薄膜制备的纳米SnO2薄膜
通过在玻璃基板上对锡进行阳极氧化来制备SnO 2薄膜。 阳极膜的表面形貌与原始的Sn膜一致,表明氧化过程主要是沿着Sn颗粒垂直发生的。 所制备的阳极SnO 2薄膜在表面具有非晶SnO 2相,随后在Sn
PDF
2.64MB
2021-03-25 00:41
选择性激光熔化制备锆基非合金的行为分析
受成形尺寸小、晶化严重等行为的影响,非晶合金的应用受到一定限制。本文以纯锆为基板,采用选择性激光熔化成形技术制备了15 mm×15 mm×15 mm的块体Zr50Ti5Cu27Ni10Al8非晶合金,
PDF
15.57MB
2021-01-30 01:05
硅纳米SiO2多层薄膜制备
硅纳米晶/SiO2多层薄膜的制备
PDF
1.14MB
2021-05-11 06:13
PECVD低温制备化硅薄膜及其机制浅析.pdf
PECVD低温制备晶化硅薄膜及其机制浅析
PDF
287KB
2020-07-17 02:19
React性脉冲激光烧蚀制备的发光氢化纳米非薄膜
通过以氢为React气体的React性脉冲激光烧蚀技术制备了氢化的纳米非晶硅(na-Si:H)薄膜。 发现氢气压力对薄膜的结构和光致发光(PL)性能都有很大影响。 氢压力的增加导致膜从无定形的硅向na
PDF
961KB
2021-02-25 05:55
KrF准分子激光退火氢化非碳化硅薄膜研究
介绍了利用KrF准分子脉冲激光对氢化非晶碳化硅(a-SiC∶H)薄膜进行激光退火以实现薄膜的结晶化。利用等离子增强化学气相沉积(PECVD)在单晶Si(100)衬底上制备a-SiC∶H薄膜, 再用不同
PDF
1.87MB
2021-03-11 09:16
ECRMOPECVD技术制备GaN薄膜研究
ECR-MOPECVD技术制备GaN薄膜研究,李赟,陈俊芳,利用氮等离子体阀射光谱和朗谬尔双探针诊断了ECR-MOPECVD装置反应室中轴向与径向的等离子体参数,得到相同气压,不同功率,不同位置�
PDF
0B
2020-03-02 08:19
真空环境中脉冲激光烧蚀制备纳米银薄膜的生长特性
采用XeCl准分子脉冲激光,在室温、真空环境下烧蚀银靶,通过改变激光能量密度和靶衬间距,在与靶面平行放置的Si(111)衬底上沉积了一系列纳米银晶薄膜。利用扫描电镜以及X射线衍射仪、选区电子衍射技术对
PDF
8.32MB
2021-02-25 05:28