ECRMOPECVD技术制备GaN薄膜研究

上传：u11574 浏览： 36 推荐： 0 文件：PDF 大小：314.19KB 上传时间：2020-03-02 08:19:27 版权申诉

ECR-MOPECVD技术制备GaN薄膜研究，李赟，陈俊芳，利用氮等离子体阀射光谱和朗谬尔双探针诊断了ECR-MOPECVD装置反应室中轴向与径向的等离子体参数，得到相同气压，不同功率，不同位置�

上传资源

薄膜制备技术试验.ppt

薄膜制备技术试验.ppt 真空技术在二十世纪得到迅速发展,并有广泛的应用。二十世纪初,在真空获得和测量的设备方面取得进展,如旋转式机械泵,皮氏真空计,扩散泵,热阴极电离真空计的发明,为工业上应用高真

APPLICATION/MSWORD

2020-08-08 18:55

磁控溅射制备TaN薄膜研究

磁控溅射制备TaN薄膜研究，康杰，，使用磁控反应溅射制备TaN薄膜，研究不同氮分压，工作气压，溅射功率以及基片温度等条件对薄膜的结构和性能影响，得到了薄膜的方阻

2020-07-19 01:36

PECVD技术制备光学薄膜的研究进展

等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在制备高激光损伤阈值的激光薄膜和渐变折射率结构的光学薄膜方面有独特的优点。通过大量的工艺研究,人们掌握了调控光学薄膜材料折射率和降低消光系数的方法。目前已知薄

2021-01-31 14:08

论文研究ECRMOCVD法外延生长GaN薄膜及其研究.pdf

ECR-MOCVD法外延生长GaN薄膜及其研究，薛永奇，陈俊芳，采用电子回旋共振等离子体增强化学汽相沉积（ECR-MOCVD）在（0001）面蓝宝石衬底上低温（450oC)外延生长了GaN薄膜。通过等

2019-09-04 05:32

ZAO薄膜的制备

ZAO薄膜的制备采用溶胶–凝胶法制备Al–Sc 共掺杂ZnO 透明导电薄膜,考察了结晶性、晶界状态、紫外–可见光透射光谱及Hall 效应,并讨论其掺杂机制

2020-08-15 19:48

用磁控溅射技术制备氮化铝薄膜

报道了用磁控溅射制备氮化铝薄膜的工艺过程和实验结果.给出了氮化铝薄膜的光学常数与氩气、氮气压强之间的关系.结果表明,氮化铝薄膜的光学性质,很大程度上取决于氮气和氩气之间的压强比.

2021-03-02 01:13

高强度激光薄膜的制备技术

激光薄膜的制备技术是日本东洋大学教授村山洋一的一项研究成果,它用了高频离子溅射技术和新的拋光技术,前者能够镀制致密,坚硬的优质薄膜,后者能减小玻璃基板表面的粗糙度,从而大大提高薄膜的抗激光损伤能力。

2021-04-23 16:29

硅薄膜的制备及光学性能研究

硅薄膜的制备及光学性能研究，马胜利，王利，本文采用磁控溅射技术，通过改变溅射功率制备了系列非晶硅薄膜，并研究了薄膜的光学性能。结果发现，随着溅射功率的提高，硅薄膜

2020-07-24 06:40

电泳沉积制备功能薄膜研究进展

电泳沉积制备功能薄膜研究进展，周海佳，刘雪芹，电泳沉积（EPD）是一种材料制备的电化学方法，应用十分广泛。作为功能材料制备的重要手段，电泳沉积最近几年发展非常迅速。不仅其

2020-07-20 07:45

水溶液法制备ZnO薄膜的研究

水溶液法制备ZnO薄膜的研究，刘辉，靳正国，以硝酸锌和氨水为前驱生长液，采用低温水溶液法在涂敷ZnO晶种层的玻璃基底上外延生长ZnO棒状晶薄膜。应用SEM和XRD表征ZnO薄膜的形貌和

2020-04-25 12:45

NbSiN薄膜的制备及光学性能研究

采用射频磁控溅射法,以铌靶和硅靶为靶材,在玻璃基片上沉积了NbSiN薄膜。研究了硅靶、铌靶功率、氮气流量以及溅射时间对薄膜光学性能的影响,得出实验室条件下的最佳制备工艺参数。测试结果表明,最佳工艺参数

2021-02-08 22:58

In掺杂ZnO薄膜的制备及其特性研究

采用射频反应溅射技术在硅(100)衬底上制备了未掺杂和掺In的ZnO薄膜。掠角X射线衍射测试表明,实验中制备的掺In样品为ZnO薄膜。用X射线衍射仪、原子力显微镜和荧光分光光度计分别对两样品的结构、表

2021-03-08 06:31

MOD法制备SrTiO3薄膜研究

MOD法制备SrTiO3薄膜研究，陈文祥，丁灵效，本文采用金属有机物沉积（MOD）方法在双轴织构的Ni-5at%W合金基带上制备YBCO超导带材的SrTiO3(STO)缓冲层。研究了退火温度以及单层薄

2020-07-17 02:17

塑性成型制备微米级钛酸钡薄膜研究

塑性成型制备微米级钛酸钡薄膜研究，苏力宏，周芝泉，作为具有高介电常数跃迁性能的铁电薄膜材料，微米级钛酸钡薄膜具有作为超级电容器和电子小型化器件应用的性能优势。本文分析了现

2020-07-17 01:42

显示光电技术中的低温p Si薄膜的制备研究

引言近年来,有源液晶显示技术在液晶显示产业和研究领域都独占鳌头。在有源液晶显示技术中,多晶硅薄膜因高迁移率展现出独特的优势,它的器件尺寸小,可以获得更高的开口率和分辨率;由于迁移率的提高可以将周边驱

2020-12-13 08:16