晶圆烘干技术

**旋转淋洗烘干机 **异丙醇(IPA)蒸汽烘干法 **表面张力/麦兰烘干法。 完全的烘干是在一个类似离心分离机的设备中完成的。一种方式是将晶片承载器装入一圆筒状容器内部的片匣固充器中。在这一圆筒状容器的中心是一排连接着去离子水和热氮气的带孔的管子。(图5.33) 烘干的过程实际起始于晶片的冲洗,因为晶片是围绕着喷水的中心管柱旋转的。然后,当热氮气从中心管柱中喷出时,SRD转换为高速旋转。不难想象,旋转把水从晶片表面甩掉。热氮气可帮助去除紧附于晶片上的小的水珠。 SRDS还可以设计用来做单个晶片承载器的烘干。承载器可以被滑动推入反应室内部的一个旋转固定器中。水和氮气从其侧壁进入反应室而不是通过